此結構能同時從四個並行存儲器中讀取蝶形運算所需的4個操作數，極大地提高了處理速度。 此結構控制單元簡單，便於模塊化設計。 在系統時鐘爲100MHz時，1024點18位複數FFT的計算時間爲13μs… 世宏科技(蘇州)有限公司)摘 要：本文回顧了模擬和數字集成電路設計EDA工具的發展歷程，詳細地分析了數字電路設計流程，指出在當前深亞微米集成電路設計中存在的問題及EDA工具發展動向。 關鍵詞：深亞微米；EDA工具… 本文基於VLSI劃分問題的需要,提出了一種VLSI設計到賦權超圖轉換算法.該算法解決的關鍵問題是,它讀取和遍歷Verilog語言描述的樹狀結構VLSI設計,將其轉換爲賦權超圖並存儲爲指定的文件存儲格式,從而有效地將VLSI劃分…
Verilog數字VLSI設計教程Lab01詳細流程，包括展示了修改的代碼，和工具使用教程，並展示了實驗結果。
iclayout: 繪製
針對邊界掃描主控器常規實現方案執行速度慢,與通用處理器配合的專用邊界掃描接口芯片仍然是依靠處理器運行邊界掃描軟件,測試速度不高,設計靈活性受到了接口芯片的限制的問題,提出了一種基於VHDL語言描述、FPGA實現的… 利用現場可編程門陣列豐富的邏輯資源，虛擬出傳統微控制器的處理器，添加Wishbone總線，將處理器與通用外設連接構成一個虛擬的微控制器平臺，並使用硬件描述語言Verilog和VHDL,自底向上設計AVR處理器，與通用外設… iclayout2025 爲了提高JPEG2000圖像壓縮速度，提出一種基於提升算法的二維離散9/7小波變換（DWT）Mesh結構的VLSI設計方案，利用這種Mesh結構的VLSI能夠實現並行處理一個圖像的所有像素點。
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- 針對邊界掃描主控器常規實現方案執行速度慢,與通用處理器配合的專用邊界掃描接口芯片仍然是依靠處理器運行邊界掃描軟件,測試速度不高,設計靈活性受到了接口芯片的限制的問題,提出了一種基於VHDL語言描述、FPGA實現的…
- 對於真正想學好版圖設計的，不只是會畫版圖而已，還需要知道各種器件的電學性能，電路的一些性能，工藝方面也要很清楚。
- 很多人都想做PIE，包括應屆生，有經驗的module，我想原因很簡單，在fab中，PIE學到東西最多，技術含量最高，最容易跳槽。
光刻（Photolithography）的輸出是光刻膠上的圖形，是需要一系列工藝的過程，是將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程，是將IC版圖的一些數據和結構臨時“複製”到硅片上的過程。 光刻利用曝光和顯影在光刻膠層上“畫上”需要的圖形，這樣獲得的圖形用作Etching（蝕刻）工藝或者implantation（我個人理解叫更深的摻雜doping）的mask。 本篇文章將根據我們在 CMOS 製造系列中學習的製造步驟跟進一步理解 CMOS 佈局Layout。 光刻是將圖案從掩模轉移到基板的過程，Layout版圖設計是繪製製造過程中使用的掩模MASK。 PIE(製程整合工程師)詳細介紹 【本版必看】PIE（製程整合工程師）詳細介紹！
iclayout: 對比 繪製Layout 和 真實的製造工藝步驟
這種並行處理的Mesh結構可提高小波變換… 使用硬件描述語言，自底向上設計處理MIPS,並且與幾類通用外設互連組成系統，使用Virtex-Ⅱ Pro系列FPGA進行板級驗證。 iclayout2025 iclayout2025 iclayout2025 板級驗證結果表明實現了既定目標，與標準MCU 兼容，系統運行穩定。
- 利用現場可編程門陣列豐富的邏輯資源，虛擬出傳統微控制器的處理器，添加Wishbone總線，將處理器與通用外設連接構成一個虛擬的微控制器平臺，並使用硬件描述語言Verilog和VHDL,自底向上設計AVR處理器，與通用外設…
- 世宏科技(蘇州)有限公司)摘 要：本文回顧了模擬和數字集成電路設計EDA工具的發展歷程，詳細地分析了數字電路設計流程，指出在當前深亞微米集成電路設計中存在的問題及EDA工具發展動向。
- 關鍵詞：深亞微米；EDA工具…
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謹以此帖祝賀本版帖子過千，並獻給我的師傅！ PIE確實不容易，這句話作爲開場白。 很多人都想做PIE，包括應屆生，有經驗的module，我想原因很簡單，在fab中，PIE學到東西最多，技術含量最高，最容易跳槽。 iclayout2025 事實的確如此，我們team到現在沒有一個超過3年經驗的PIE，因爲老人全部跳槽了。 對於真正想學好版圖設計的，不只是會畫版圖而已，還需要知道各種器件的電學性能，電路的一些性能，工藝方面也要很清楚。